半导体平面工艺：光刻

什么是光刻
光刻是一项图形转换和化学腐蚀相结合的综合性技术。具体来讲，是以光刻胶为掩膜，进行初步的图形转换，使用氢氟酸或浓磷酸为腐蚀剂进行腐蚀，完成图形转换。

光刻的基本流程：
1.清洗
2.匀胶
3.前烘
4.曝光
5.显影
6.坚膜
7.腐蚀
8.去胶

稿件来源于:中科院射频电源组